1. 分辨率:高真空(二次電子)1.0nm at 30kV
(背散射電子): 2.0 nm at 30 kV
低真空(低真空二次電子)﹕1.5 nm at 30 kV
2.放大倍數(shù):1 to 1000000x
3.真空系統(tǒng):電子槍真空<3*10 -7Pa
樣品室/低真空7-500Pa
4.加速電壓0.2kV to 30Kv
5.電子束電流2pA—200nA
6.內(nèi)部直徑: 340mm
接口數(shù): 20+
7.樣品臺(tái)行程:(5軸馬達(dá)控制)
X=130mm——馬達(dá)控制
Y=130mm——馬達(dá)控制
Z=100mm——馬達(dá)控制
R=360°連續(xù)--馬達(dá)控制
T=-80°至+90°--馬達(dá)控制
最大樣品高度145mm.
熱場(chǎng)發(fā)射超大樣品室掃描電鏡