XE-100是Park Systems的旗艦產(chǎn)品。該產(chǎn)品可以實(shí)現(xiàn)精確的納米計(jì)量和無(wú)損檢測(cè)。新增的多區(qū)域自動(dòng)掃描功能，更是極大的提高了檢測(cè)效率。該系統(tǒng)可廣泛的應(yīng)用于材料科學(xué)、聚合物、電化學(xué)等諸多領(lǐng)域。近年來(lái)，Raman HR-800和XE-100的聯(lián)合系統(tǒng)更是幫助VLSI開拓出了對(duì)100納米以下硅微結(jié)構(gòu)進(jìn)行機(jī)械性能分析的新天地。
技術(shù)參數(shù)(機(jī)械部分)：
1. XY掃描器：50μm×50μm（閉環(huán)），可選配100μm×100 μm（閉環(huán)）
2. Z掃描器：12μm (可選配25μm)
3. 水平度：50μm線掃描垂直偏差不超過1nm
4. XY和Z掃描器的正交性：1.0o
5. 樣品臺(tái)移動(dòng)范圍：25mm×25mm（X/Y），27.5mm (Z)
6. 樣品尺寸：100mm×100mm
7. 光學(xué)觀察：垂直光路設(shè)計(jì)，可直接觀察微懸臂和樣品
技術(shù)參數(shù)(電子部分)
1. 微處理器：600MHz，4800MIPS DSP
2. 模數(shù)/數(shù)模：16位，500kHz采樣頻率
3. 圖像采集：同步自動(dòng)采集16幅圖像，分辨率高達(dá)4096×4096像素
4. 通訊方式：采用基于TCP/IP協(xié)議的通訊方式與計(jì)算機(jī)聯(lián)接
5. 符合CE認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)工作模式：
. 真正非接觸模式(True non-contact mode)
. 接觸模式(contact mode)
. 相位模式(phase imaging)
. 橫向力模式(LFM)
擴(kuò)展工作模式：
. 力測(cè)量（Force measurements）
. 導(dǎo)電（Conductive AFM）
. 電力（Electric Force）
. 電子 (Electrical)
. 磁性 (Magnetical)
. 機(jī)械 (Mechanical)
. 熱 (Thermal)
主要特點(diǎn)：
一、 計(jì)量精確
XE系列AFM徹底消除了球面誤差，因而具備了實(shí)現(xiàn)精確納米計(jì)量的能力。
二、 掃描器線形度高，直角正交
XE系列AFM采用了柔性掃描器最大限度減小了X和Y掃描運(yùn)動(dòng)的交叉耦合，并且通過位移傳感器及時(shí)進(jìn)行反饋控制，這就有效保證了掃描的準(zhǔn)確度和精度。
三、 非接觸式掃描
可真正實(shí)現(xiàn)非接觸式掃描是Park AFM最顯著的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。采用這一模式掃描時(shí)，針尖和樣品間距可以保持在幾個(gè)納米，在避免針尖磨損的同時(shí)提高了成像質(zhì)量。
四、 CrN樣品測(cè)試結(jié)果
CrN樣品具有點(diǎn)狀尖銳的特點(diǎn)，是常用的AFM探針性能測(cè)試樣品。如采用輕敲模式進(jìn)行掃描，10次后圖像質(zhì)量就因針尖磨損而明顯下降。在非接觸掃描實(shí)驗(yàn)中，掃描100次后圖像細(xì)節(jié)依然清晰，證明針尖沒有受到損傷。