Tft-lcd 基板清洗設(shè)備
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Tft-lcd 基板清洗設(shè)備
詳細(xì)信息 整套設(shè)備由上下料裝置,傳送裝置,干洗部分紫外光化學(xué)清洗艙(UV單元)和濕洗部分(藥液噴淋艙,刷洗,高壓噴淋,超聲波清洗,風(fēng)刀)綜合組成,清洗流程設(shè)計(jì)為1藥液噴淋(弱堿,附加DIW自清洗功能)-2藥液刷洗(弱堿或者中性)-3超聲波-4二流體噴淋(高壓)-5兆聲波(頻率率百萬赫茲以上)-6超純水噴淋清洗-7風(fēng)刀干燥-8紫外單元。設(shè)備每個(gè)部分能夠單獨(dú)控制;1單元前以及2,3單元間必須配備風(fēng)刀液切單元,防止廢氣泄露以及單元間相互污染
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