半導(dǎo)體分立器件RCA硅晶圓片濕法刻蝕清洗機
品牌:《南軒電子》適用于去除硅晶圓片工件表面的油污及其他有機物、除膠、去金屬離子等。設(shè)備由清洗槽部分、伺服系統(tǒng)及機械臂部分、層流凈化系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、機架及整機部分組成。清洗槽部分由有機溶劑槽、去離子水槽、酸槽或堿槽等組成。關(guān)鍵件均采用進口原件,包括氣動閥,PFA管道,全氟循環(huán)系統(tǒng)等,保證工作介質(zhì)(酸、堿)的潔凈度,避免雜質(zhì)析出。 整體采用德國進口工程塑料焊接組合加工而成,結(jié)構(gòu)合理,外型美觀。工藝過程全自動,機械手在槽間的轉(zhuǎn)換由兩套伺服系統(tǒng)控制,可存儲多條工藝時序,方便使用。 人機界面為觸摸屏,方便直觀,操作簡便。.除裝片和取片需人工外,其余工藝動作均可自動完成。設(shè)備適用于微電子半導(dǎo)體行業(yè),也適合于高?;瘜W(xué)實驗室作實驗濕臺、腐蝕臺。非標(biāo)規(guī)格,具體規(guī)格依客戶工藝確定。有需求此方面設(shè)備的朋友,歡迎來電咨詢:馬勝南15010795119,010-52103382。
微電子實驗室用凈化存儲通風(fēng)柜
品牌:《南軒電子》為高潔凈度通風(fēng)保管柜,適用于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝過程中存放成品、半成品和材料等 。2.本設(shè)備主要由高效空氣過濾 、通風(fēng)機、電器控制系統(tǒng)、柜體、門等組成。3.柜體采用銀白色噴砂電泳鋁材作框架,拉絲不銹鋼材料作面板,外形美觀。4.工作區(qū)全部為拉絲不銹鋼板, 四層擱架牢固可靠,前面安裝有染色有機玻璃門5.主要指標(biāo):(1).凈化級別:100級(2).平均風(fēng)速(m/s):0.25—0.45 (3).工作區(qū)尺寸920×350×1315mm(寬 ×深×高) (4.)外形尺寸1000×815×1850 mm(寬×深×高) (5).氣流狀態(tài):氣流為水平單向流,送風(fēng)機具備兩檔轉(zhuǎn)速,開門時,高速運行,平時低速運行。(6).振動:X、Y、Z方向≤5цm (7).噪聲:≤64分貝馬勝南15010795119,010-52103382。
半導(dǎo)體單晶圓片蒸發(fā)清洗線
品牌:《南軒電子》適用于微電子半導(dǎo)體各尺寸硅晶圓片的清洗腐蝕,整體設(shè)備用料為德國進口磁白色聚丙烯(PP),經(jīng)雕刻后組合焊接加工而成,門板采用德國透明聚氯乙烯(PVC);腐蝕槽采用德國自然色聚偏二氟乙烯(PVDF);清洗槽采用德國自然色聚丙烯板(NPP);關(guān)健部件采用進口原器件。設(shè)備的腐蝕槽和清洗槽間的轉(zhuǎn)換由進口SEW驅(qū)動,以迅速實現(xiàn)槽與槽之間的硅片轉(zhuǎn)換。另外,此設(shè)備腐蝕槽還配有美國聚四氟乙烯加熱器、虹吸上排、傳感器。清洗槽配有溢流裝置,和N2鼓泡裝置。適用于微電子半導(dǎo)體行業(yè),也適合于高校化學(xué)實驗室作實驗濕臺、腐蝕臺。非標(biāo)規(guī)格,具體規(guī)格依客戶工藝確定。有需求此方面設(shè)備的朋友,歡迎來電咨詢:馬勝南15010795119,010-52103382。
半導(dǎo)體分立器件RCA硅晶圓片濕法刻蝕清洗機