品牌：Diener
產(chǎn)地：德國 
ZEPTO等離子清洗機(jī)可應(yīng)用于哪些方面？
ZEPTO等離子清洗機(jī)可應(yīng)用于以下方面：粘結(jié)材料或者按照您的需求改變表面特性。通過這種先進(jìn)的技術(shù)，可以對(duì)各種表面作出修改。
蝕刻和去除部分諸如聚四氟乙烯，光刻膠等之類的各種材料。
對(duì)具有類似聚四氟乙烯涂層、阻隔涂層、疏水性和親水性涂層、減摩擦涂層等的部件進(jìn)行噴涂處理。

vZEPTO等離子清洗機(jī)的應(yīng)用范圍： 
* 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
* 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。 
* 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
* 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
* 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。
* 清洗生物芯片、微流控芯片。
* 清洗沉積凝膠的基片。
* 高分子材料表面修飾。
* 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
* 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。 
小型等離子清洗機(jī) - 低成本等離子處理設(shè)備
等離子清洗 - 等離子刻蝕 - 等離子去膠 - 等離子活化
ZEPTO等離子清洗機(jī)以體積小、成本低、操作簡便等特點(diǎn)廣泛應(yīng)用于科研及小批量生產(chǎn)場(chǎng)合

ZEPTO等離子清洗機(jī)
反應(yīng)室尺寸：玻璃反應(yīng)艙Ø 105 mm，L 300 mm
反應(yīng)室容積：約 2,6 公升
氣體供應(yīng)：針閥控制型，雙氣體通道
射頻發(fā)生器：40kHz/100W或13,56 MHz/ 50W
真空泵：抽氣速率: 2 m³/h 
托盤：1 件
控制方式：手動(dòng)，計(jì)時(shí)器控制制程時(shí)間