儀器介紹
K950X高真空蒸鍍儀在使用碳棒蒸鍍時(shí)可給出連續(xù)的碳膜,并且使用渦輪分子泵時(shí)無(wú)污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜,以及SEM中的導(dǎo)電涂層。 在厚度為2nm (20埃)或更厚時(shí)膜是連續(xù)的。最通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以達(dá)到最大電流密度,使得它具有足夠的溫度來(lái)引起蒸發(fā)。基于這點(diǎn),出現(xiàn)了細(xì)小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統(tǒng)需要用擴(kuò)散泵或渦輪分子泵達(dá)到1x10-4 mbar或更高的真空度。 渦輪分子泵在K950X中作為標(biāo)準(zhǔn)配置,此泵作為機(jī)械真空泵的后級(jí)泵,真空為全自動(dòng)控制,真空度優(yōu)于1x10-5 mbar??蛇M(jìn)行預(yù)熱及除氣控制,同時(shí)用瞬時(shí)蒸發(fā)開關(guān)使脈沖蒸發(fā)在用戶控制下進(jìn)行。 標(biāo)準(zhǔn)的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可進(jìn)行傾斜調(diào)節(jié),非常容易適應(yīng)各種樣品座??蛇x的樣品臺(tái)具有特殊的凹槽,可放置標(biāo)準(zhǔn)的載玻片,這在“石棉分析”需要鍍碳層時(shí)尤為有利。 碳棒頭在儀器中作為標(biāo)準(zhǔn)件。這是一個(gè)“快速釋放頭”,使用戶在選擇金屬蒸發(fā)附件、碳絲及光闌清洗頭時(shí)可方便地更換。放氣系統(tǒng)具有互鎖裝置,避免樣品受到干擾。渦輪分子泵可安裝在任何軸上,并且可安全地“關(guān)閉”直接通大氣。
主要特點(diǎn)
● 全自動(dòng)抽氣系統(tǒng)
● 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)
● 菜單驅(qū)動(dòng)式“用戶”鍵盤輸入
● 快速釋放頭方便選擇不同的頭
● 約束的排氣控制
● 渦輪分子泵抽真空
● 容易操作
● 均勻的樣品涂層
● 方便多用戶操作
● 可用于蒸碳及蒸鍍金屬
● 在排氣過(guò)程中可防止樣品損壞
● 碳棒或碳絲蒸發(fā)
技術(shù)參數(shù)
儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H (Overall height with Work Chamber 750mm) 重量:28Kg工作腔室:硼硅酸鹽玻璃165mm Dia x 125mm H安全鐘罩:聚碳酸酯鋁機(jī)座:110mm Dia x 115mm H碳 源:直徑3.2mm碳棒旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái):直徑為60 mm,傾斜0-90o
到電極距離為110mm 到 130mm真空計(jì)范圍:ATM - 1x10-5 mbar操作真空:1x10-2 to 1x10-5 mbar安培計(jì):0-50 Amps低電壓選擇:0-5V-15V-25V除氣電流:0-25 Amps渦輪分子泵:50L/Second Services -Argon - Nominal 4psi. Rotary Backing Pump -Two Stage Vacuum Pump No. 2, 35L/Min
complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter. 2m3/Hr電源:230V 50Hz (包括泵最大電流8 安培);115V 60Hz(包括泵最大電流16 安培)
高真空蒸鍍儀