用途:
該X射線晶體分析儀,主要用于研究物質(zhì)內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)。如:單晶定向、檢驗(yàn)缺陷、物質(zhì)定性、測(cè)定點(diǎn)陣參數(shù)、測(cè)定殘余應(yīng)力等。
主要參數(shù):
電 源:AC220V 50HZ 30A
功 率:2KW
靶 材:Cu(可選其他靶材)
管電壓:50KV(分檔可調(diào))
管電流:50mA(分檔可調(diào))
穩(wěn)定度:±1%
保 護(hù):過功率、過電壓、過電流、無水
冷 卻:循環(huán)水、制冷水箱
防 護(hù):鉛有機(jī)玻璃防護(hù)罩
相 機(jī):
a)德拜相機(jī)(粉沫相機(jī))大、小兩種
b)勞厄相機(jī)(平板相機(jī))
上述兩種相機(jī),用戶可自選配置
X射線晶體分析儀