MYCRO韓國制造的桌面型高精度數(shù)控勻膠涂層系統(tǒng)SPIN1200D，是轉(zhuǎn)為實驗室項目研發(fā)設(shè)計的。適用于半導(dǎo)體、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃及制版等表面涂覆工藝，可在工礦企業(yè)、科研、教育等單位作生產(chǎn)、科研、教學(xué)之用。

通過調(diào)整膠液的粘度，轉(zhuǎn)速和旋轉(zhuǎn)時間，涂層薄膜的厚度范圍從1000埃到100um自由控制。
特點：
*可用于光刻膠，聚合物，metallo-organics,dopants,silica films and most 有機或者aqueous溶液；
*由PLC控制的可編程操作；
*基于可選擇轉(zhuǎn)速值和旋轉(zhuǎn)時間可以方便計算加減速度；
*通過前面操作面板和顯示屏，可以方便選擇多種鍍膜功能。

SPIN1200D參數(shù)表：
基底尺寸：小片至4英寸基片；
腔體：8英寸（鋁陽極氧化膜保護(hù)層）
真空泵：無油真空泵
旋涂狀態(tài)設(shè)定：可以設(shè)置50步加減速過程，同時可存儲20個不同材料的旋涂過程；
旋涂轉(zhuǎn)速：最大至7000轉(zhuǎn)/分；
加速值：最大至3000轉(zhuǎn)/分；
旋轉(zhuǎn)馬達(dá)：直流伺服馬達(dá)；

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