- • 在真實實驗室條件下保持卓越的稱量性能，測量精度高、速度快
- • 全新的清潔應用程序，使清潔成為合規(guī)性和SOP的一部分
- • 在需要時升級天平的硬件和軟件，降低前期投入成本，確保投資安全
國際領先的制藥和實驗室設備供應商賽多利斯中國公司宣布，推出新一代Cubis® II大量程微量天平。該天平是Cubis® II 高端實驗室天平系列的新成員，用于在較大的容器中直接稱量非常少量的樣品。Cubis® II大量程微量天平憑借其創(chuàng)新的設計元素，最大限度地屏蔽環(huán)境影響，在真實實驗室條件下保持卓越的稱量性能。全新推出的清潔應用程序?qū)⑻炱角鍧嵦嵘搅艘粋€新高度，使清潔成為合規(guī)性和SOP 的一部分。同時，新的硬件和軟件功能可以在需要時進行更高級別的升級，全面實現(xiàn)靈活配置，降低用戶的前期投入成本。
第四代超級單體傳感器
賽多利斯發(fā)明的專利技術——超級單體傳感器，作為稱重設備的核心部件，直接決定了稱量的速度、精度和穩(wěn)定性。賽多利斯為Cubis® II大量程微量天平這類超高分辨率天平升級開發(fā)了第四代超級單體傳感器。得益于新一代稱重系統(tǒng)，Cubis® II大量程微量天平具有更高的質(zhì)量標準，不僅可以更快地獲取稱重結果，還可以耐受不同的環(huán)境條件。
卓越的重復性精度和準確度
得益于新一代稱重系統(tǒng)，Cubis® II大量程微量天平具有卓越的重復性精度和準確度，可在整個稱重范圍內(nèi)保持恒定且較低的最小樣品量（根據(jù)USP第41章）。較低的最小樣品量可以為用戶節(jié)省寶貴的分析材料，降低樣品成本。
新型內(nèi)置除靜電技術
Cubis® II大量程微量天平配備4個離子噴嘴。離子噴嘴的精妙定位、靈活的設置選項和背部除靜電技術，確保除靜電過程高效運行，樣品被完全去除靜電。同時，防風罩的導電涂層可以隔絕防風罩外部的靜電影響，從而獲得穩(wěn)定且快速的稱量結果。
智能氣壓補償技術
氣壓變化（例如氣候變化引起的氣壓變化）通常會導致稱重結果出現(xiàn)偏差，使天平的稱量值產(chǎn)生漂移，尤其對于超高分辨率的精密分析儀器，影響尤其顯著。賽多利斯首創(chuàng)的智能氣壓補償技術，使新一代Cubis® II大量程微量天平對氣壓變化具有很強的適應性，始終保持天平的準確度和精度。
全新清潔QApp應用程序
清潔實驗室儀器是實驗室日常工作的一部分，甚至是驗證過程或SOP的一部分。對于實驗室天平而言，分辨率越高，由于少量殘留物污染而使稱重準確度降低的風險就越大，這會直接影響稱重結果和樣品的質(zhì)量。Cubis® II大量程微量天平對硬件和軟件設計進行了優(yōu)化，使高精度天平的清潔變得更加簡單、安全和高效。全新的清潔 QApp 應用程序指導用戶執(zhí)行清潔操作，其內(nèi)置指南使清潔過程變得直觀、簡便。清潔 QApp還可以在審計追蹤中追蹤清潔過程，并通過用戶管理進行配置，支持包含電子簽名的文檔。清潔 QApp使清潔成為合規(guī)性和SOP的一部分。
硬件和軟件均可升級
新的軟件和硬件功能可以在用戶需要時進行更高級別的升級，實現(xiàn)全面的靈活性。同時，降低實驗室前期投入成本，確保投資安全。
此外，Cubis® II大量程微量天平秉承了Cubis II 系列天平的模塊化設計、連接性、合規(guī)性、數(shù)據(jù)管理以及強大的應用軟件等優(yōu)勢，讓您的實驗室稱量工作更加簡單。
