儀器介紹
 
K950X高真空蒸鍍儀在使用碳棒蒸鍍時(shí)可給出連續(xù)的碳膜，并且使用渦輪分子泵時(shí)無污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜，以及SEM中的導(dǎo)電涂層。 

在厚度為2nm (20埃)或更厚時(shí)膜是連續(xù)的。最通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以達(dá)到最大電流密度，使得它具有足夠的溫度來引起蒸發(fā)?；谶@點(diǎn)，出現(xiàn)了細(xì)小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統(tǒng)需要用擴(kuò)散泵或渦輪分子泵達(dá)到1x10-4 mbar或更高的真空度。 

渦輪分子泵在K950X中作為標(biāo)準(zhǔn)配置，此泵作為機(jī)械真空泵的后級(jí)泵，真空為全自動(dòng)控制，真空度優(yōu)于1x10-5 mbar?？蛇M(jìn)行預(yù)熱及除氣控制，同時(shí)用瞬時(shí)蒸發(fā)開關(guān)使脈沖蒸發(fā)在用戶控制下進(jìn)行。 

標(biāo)準(zhǔn)的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可進(jìn)行傾斜調(diào)節(jié)，非常容易適應(yīng)各種樣品座?？蛇x的樣品臺(tái)具有特殊的凹槽，可放置標(biāo)準(zhǔn)的載玻片，這在“石棉分析”需要鍍碳層時(shí)尤為有利。 

碳棒頭在儀器中作為標(biāo)準(zhǔn)件。這是一個(gè)“快速釋放頭”，使用戶在選擇金屬蒸發(fā)附件、碳絲及光闌清洗頭時(shí)可方便地更換。放氣系統(tǒng)具有互鎖裝置，避免樣品受到干擾。渦輪分子泵可安裝在任何軸上，并且可安全地“關(guān)閉”直接通大氣。 
 
主要特點(diǎn)
 
● 全自動(dòng)抽氣系統(tǒng)
● 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)
● 菜單驅(qū)動(dòng)式“用戶”鍵盤輸入
● 快速釋放頭方便選擇不同的頭
● 約束的排氣控制
● 渦輪分子泵抽真空 
 

● 容易操作
● 均勻的樣品涂層
● 方便多用戶操作
● 可用于蒸碳及蒸鍍金屬
● 在排氣過程中可防止樣品損壞
● 碳棒或碳絲蒸發(fā) 
 

 
技術(shù)參數(shù)
 

儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H (Overall height with Work Chamber 750mm) 重量：28Kg

工作腔室：硼硅酸鹽玻璃165mm Dia x 125mm H

安全鐘罩：聚碳酸酯

鋁機(jī)座：110mm Dia x 115mm H

碳  源：直徑3.2mm碳棒

旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)：直徑為60 mm，傾斜0-90o
                  到電極距離為110mm 到 130mm

真空計(jì)范圍：ATM - 1x10-5 mbar

操作真空：1x10-2 to 1x10-5 mbar

安培計(jì)：0-50 Amps

低電壓選擇：0-5V-15V-25V

除氣電流：0-25 Amps

渦輪分子泵：50L/Second 

Services -Argon - Nominal 4psi. Rotary Backing Pump -Two Stage Vacuum Pump No. 2, 35L/Min 
complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter. 2m3/Hr

電源：230V 50Hz (包括泵最大電流8 安培)；115V 60Hz(包括泵最大電流16 安培)