名稱：氧化硅TEM窗口 
編號：氧化硅 
產(chǎn)品詳情：
透射電鏡（TEM）用氧化硅薄膜窗格
 
 
氧化硅與氮化硅薄膜窗格比較：
相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更適合用于含氮樣本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，則會與樣本造成混淆。

樣本安置面：
對多數(shù)用戶來說，樣本應(yīng)安置在薄膜窗格的“覆膜面”而非“蝕坑面”。但我們也知道在一些特殊情況下，蝕坑面也可安置樣本。除對樣本進行原子力顯微鏡（AFM）觀測外，蝕坑面本質(zhì)上并非不可用于放置樣本。實際上，沒有一個顯微鏡的懸臂可以伸至蝕坑內(nèi)“看清”薄膜表面。 
 
 
氧化硅薄膜窗特點：
 
清洗：采用等離子清洗，無有機物殘留，改善成像質(zhì)量； 
均勻性：減少了不同區(qū)域的不均勻性； 
穩(wěn)定性： 耐高溫，>1000℃； 
良好的化學(xué)穩(wěn)定性：圖像分辨率和機械強度達到理想的平衡；
化學(xué)計量比的SiO2：可用于氮氣環(huán)境下的EDX分析；
 
氧化硅薄膜窗規(guī)格
 
窗口類型 薄膜厚度 窗口尺寸 框架尺寸 框架厚度 
 20nm 2x1陣列，100X1500µm Φ3mm 200µm  
40nm 2x1陣列，100X1500µm Φ3mm 200µm 
 20nm 3x3陣列，窗口100X100µm Φ3mm 200µm  
40nm 3x3陣列，窗口100X100µm Φ3mm 200µm 
 8nm 窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24個網(wǎng)格，網(wǎng)格大小70x70µm Φ3mm 200µm 
18nm 窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24個網(wǎng)格，網(wǎng)格大小60x60µm Φ3mm 200µm 
40nm 窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24個網(wǎng)格，網(wǎng)格大小50x50µm Φ3mm 200µm 

  
優(yōu)點：
   SEM應(yīng)用中，薄膜背景不呈現(xiàn)任何結(jié)構(gòu)和特點。 
   x-射線顯微鏡中，裝載多個分析樣的唯一方法。 
   無氮
 
應(yīng)用：
氧化硅薄膜應(yīng)用范圍非常廣，甚至有時使不可能變?yōu)榭赡?，但所有?yīng)用都有無氮要求（因樣本中有氮存在）： 
● 惰性基片可用于高溫環(huán)境下，通過TEM、SEM或AFM（某些情況下）對反應(yīng)進行動態(tài)觀察。 
● 作為耐用（如“強力”）基片，首先在TEM下，然后在SEM下對同一區(qū)域進行“匹配”。 
● 作為耐用匹配基片，對AFM和TEM圖像進行比較。 
● 聚焦離子束（FIB）樣本的裝載，我們推薦使用多孔薄膜，而非不間斷薄膜。 
 
氧化硅薄膜TEM網(wǎng)格操作使用：
如果正確操作，氧化硅薄膜將會擁有非常好的性能。相反，若用工具直接接觸薄膜，則會即刻損壞薄膜。為防損壞，可用尖嘴鑷子小心夾取，就像夾取其他TEM網(wǎng)格一樣。  
 
使用前清潔：
    氧化硅薄膜窗格在使用前不需進行額外清潔。有時薄膜表面邊角處會散落個別氧化物或氮化物碎片。由于單片網(wǎng)格需要從整個硅片中分離，并對外框進行打磨，因此這些微小碎片不可避免。盡管如此，我們相信這些碎片微粒不會對您的實驗產(chǎn)生任何影響。 

    如果用戶確實需要對這些碎片進行清理，我們建議用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清潔有機物，用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清潔金屬。 

    通常不能用超聲波清洗器清潔薄膜，因超聲波可能使其粉碎性破裂。