品牌：Diener
產地：德國 
NANO 等離子清洗機可應用于哪些方面？
NANO等離子清洗機可應用于以下方面：粘結材料或者按照您的需求改變表面特性。通過這種先進的技術，可以對各種表面作出修改。
蝕刻和去除部分諸如聚四氟乙烯，光刻膠等之類的各種材料。
對具有類似聚四氟乙烯涂層、阻隔涂層、疏水性和親水性涂層、減摩擦涂層等的部件進行噴涂處理。

NANO 等離子清洗機的應用范圍： 
* 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
* 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
* 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。
* 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
* 清洗半導體元件、印刷線路板。
* 清洗生物芯片、微流控芯片。
* 清洗沉積凝膠的基片。
* 高分子材料表面修飾。
* 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
* 改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。 
小型等離子清洗機 - 低成本等離子處理設備
等離子清洗 - 等離子刻蝕 - 等離子去膠 - 等離子活化
NANO 等離子清洗機成本低、操作簡便等特點廣泛應用于科研及小批量生產場合.

NANO 等離子清洗機
規(guī)格：W580mm×H650mm×D500mm
不銹鋼真空艙體：Ø267mm×L420mm(可選裝石英艙體)
反應室容積：約24公升
氣體供應：針閥控制型；雙氣體通道；
射頻發(fā)生器：40kHz/300W，可調變輸出率 (可選：13.56MHz或2.45GHz)
真空泵：抽8m3/h；
托盤：1 件
控制方式：半自動控制，計時器控制制程時間
NANO UHP  （直徑240mm，L400mm，18升）
NANO UHP 等離子機，反應室為玻璃材料(不采用不銹鋼)。適用于不易清除痕跡的鉻，鎳和鐵材料。